ملخص الأختراع

  تم أستخدام تقنية الترسيب الزاوي المائل لمنظومة التبخير الحراري بالفراغphysical Vapor Deposition (PVD)   في  تحضير كواشف التوصيلية الضوئية نانوية التركيب (Al/CdO/P-Si/Al) المرسبة بالوضعين العمودي والمائل و دراسة خصائصها التركيبية البصرية, الكهربائية , الكهروحرارية وخصائص الكاشف.حيث اثبتت النتائج التأثير الواضح لزاوية الترسيب على جميع الخصائص للأغشية المحضرة,وحققت أفضل النتائج عند أعلى زاوية ترسيب (˚70). لقد تم دراسه الخواص الكهروحرارية لجميع النماذج المرسبة بالوضيعين الاعتياديNormal deposition  والمائلOblique                         Deposition  بأستخدام جهاز سيباك  Seeback. ومنها  تم حساب معامل سيباك Seeback Coefficient  ,عامل القدره  Power Factor (P.F) بالاضافة الى Figure of merit   والمتمثل بكفاءة التحويل الكهروحراري للمادة, وكان لزاوية الترسيب الاثر الواضح  في تحسين هذه الخصائص. اي الحصول على كفاءة تحويل عالية في حالة الترسيب بالوضع  المائل بالمقارنه مع الترسيب بالوضع  الاعتيادي.